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Silios Technologies
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SILIOS Technologies crée des micro-composants optiques
pour télécommunications, transmission de données,
systèmes d’imagerie, instrumentation, médecine,
aéronautique, défense, environnement…

 

Presse & news


Salons
SILIOS Technologies sera exposant à:

OPT0 2008
30 sept - 1&2 octobre 2008
Paris-Nord, Villepinte

France
Hall 1&2 - Stand 1F8

 

Photonics West
27-29 janvier 2009
Convention Center - San José

Californie, Etats-Unis
Hall Sud - Stand 6142

     

 

   

 

Communiqués de presse

Rousset-Peynier, septembre 2006

SILIOS obtient un contrat de recherche de 238 000 € pour sa collaboration au projet européen PLASMOCOM.

Le projet PLASMOCOM (Polymer-based Nanoplasmonic Components and devices), http://www.plasmocom.org) a été lancé le 1er septembre 2006 dans le cadre du 6e PCRD de la Commission Européenne.

Ce projet de recherche spécifique (STREP) rassemble des laboratoires européens leaders dans le domaine des plasmons et une société française spécialisée en optique planaire, dans le but de développer et mettre en application un nouveau concept de composants photoniques, dynamiques et actifs, à l’échelle micro et nanométrique, basés sur des nanostructures métal/polymères.

Il s’agit d’utiliser les propriétés uniques des systèmes métalliques qui permettent de transmettre à la fois des signaux électriques et optiques dans le même circuit, pour créer des composants intégrés innovants, combinant photonique et électronique sur la même puce.

La technologie proposée utilise des plasmons polaritons de surface – excitations électromagnétiques qui se propagent et sont guidés par une interface entre un métal et un diélectrique.

Ces ondes électromagnétiques de surface permettent le traitement de signaux optiques à une échelle inférieure à la longueur d’onde et, par conséquent, concernent uniquement les applications des circuits photoniques intégrés et le développement des dispositfs photoniques tout-optique commandés électroniquement.

Les avancées dans ce domaine ouvriront la voie à un nouvelle gamme de composants photoniques hybrides optiques/électroniques, compatibles avec les technologies photonique et électronique actuelles.

L’objectif du projet est de constituer une nouvelle plateforme technologique qui permettra d’intégrer des composants nanophotoniques offrant de meilleures fonctionnalités pour la transmission du signal optique, l’interconnexion optique sur puce électronique et les applications large bande.

PLASMOCOM apportera une nouvelle base de connaissance sur la fabrication et les performances des dispositifs nanophotoniques, dynamiques et passifs, et fera la démonstration de nouveaux composants présentant de meilleurs paramètres ( fabrication peu coûteuse, taille plus petite, fonctionnalités dynamiques et actives améliorées avec une plus faible consommation électrique et une plus faible intensité du contrôle optique).

Il contribuera ainsi à la compétitivité et au leadership de l’Europe dans le domaine de la miniaturisation des composants et des circuits intégrés photoniques.

Constitution du consortium PLASMOCON :

  • Queen’s University of Belfast (Royaume-Uni) : co-ordinator
  • Lazer Zentrum Hannover eV (Allemagne)
  • Aalborg University (Danemark)
  • Université de Bourgogne (Dijon-France)
  • SILIOS Technologies (Peynier- France)

 

 

 

 

 

 

 

 

Image Lazer Zentrum Hannover eV

 

 

 

 

 

 

 

Image IAP

 

 

 

 

 

 

Rousset-Peynier, janvier 2006

SILIOS obtient un contrat de recherche de 334 000 € pour sa collaboration au projet européen DELILA.

DELILA est un STREP financé par l'Union Européenne dans le cadre du 6ième PCRD et adressant les domaines scientifiques IST "Technologies et composants pour l'intégration à l'échelle micro et nanométrique" et "Nanoélectronique".

Le but principal de DELILA est le développement d'une technologie de lithographie basée sur l'interférence à faisceaux laser multiples et ayant pour application la structuration à l'échelle nanométrique de matériaux en 2D et 3D, dans les secteurs de la nanophotonique et de l'électronique.

Le projet poursuit trois objectifs:

- l'exploration fondamentale de la technologie et de ses performances théoriques.

Cela inclura notamment la formation de motifs nanométriques, l'interaction avec différents matériaux et les effets environnementaux sur les performances.

- le développement d'un logiciel pour l'analyse de l'interférence entre plusieurs faisceaux laser cohérents et pour la simulation de la diffraction par des structures périodiques de différentes formes.

Cela conduira à la synthèse et à l'optimisation des caractéristiques du faisceau laser nécessaire à l'obtention des structures requises.

- le développement du système DELILA.

Le résultat principal du projet sera la mise au point d'un outil de fabrication permettant une réelle avancée dans le domaine de la nanolithographie pour la stucturation de matériaux en 2D et 3D.

Les partenaires de SILIOS Technologies sur ce projet sont:

- Manufacturing Engineering Centre (MEC), Cardiff University, UK (coordinateur)

- Institute of Applied Physics, Russian Academy of Sciences (IAP), Russia

- Optoelectronics Research Centre, Tampere University of Technology (ORC), Finland

- Department of Microelectronics, Centro de Estudios e Investigaciones Técnicas de Gipuzkoa (CEIT), 

  Spain

 

 

 

 

La Lettre Mensuelle - Appui commercial -CAP Japon - 15 décembre 2005

Nouveaux partenaires japonais en vue pour SILIOS Technologies.

Par Takako Suzuki, Appui commercial, CCIFJ (extrait).

Début décembre 2005, en collaboration avec la Chambre de Commerce et d'Industrie de Paris et la Chambre de Commerce et d'Industrie Française du Japon, SILIOS Technologies a effectué une première mission de prospection au japon afin de trouver des partenaires locaux pour attaquer ce marché.

Les interlocuteurs japonais ont été impressionnés par les technologies de SILIOS uniques et innovantes.

"Dix rencontres ont été organisées par la CCIFJ avec des entreprises du secteur de l'optique et de l'instrumentation" commente M. Thierry Berthou, Responsable Commercial de SILIOS Technologies sur la mission, "parmi celles-ci quatre sont apparues vraiment intéressantes pour SILIOS et semblent pouvoir être des partenaires potentiels. Cette mission a été très positive pour nous car, en plus de la découverte de distributeurs potentiels, elle a permis d'évaluer le bon potentiel du marché japonais et de découvrir qu'il y a peu de concurrence au Pays du Soleil Levant sur ces produits."

 

 

 

 

Rousset-Peynier, le 18 novembre 2005

SILIOS Technologies récompensée par le prix "Créa 13".

La 14ième édition du prix départemental aux créateurs d'entreprises et d'emplois s'est déroulée le 17 novembre 2005 à l'Hôtel du Département des Bouches-du-Rhône. Créé en 1992 par le Conseil Général, ce challenge, baptisé "Créa 13", est le plus important trophée en terme de dotations, organisé par une collectivité locale pour des entreprises. Au départ, le jury composé d'une trentaine de membres (issus d'établissements financiers, d'organismes publics ou para-publics, de sociétés, etc.) a reçu plus d'une centaine de candidatures.

SILIOS TECHNOLOGIES s'est distinguée parmi les cinq premiers lauréats du trophée.

Les entreprises récompensées devaient répondre aux critères suivants: être innovantes, en pleine croissance, financièrement saines et présenter des résultats prometteurs.

 

 

 

image © ESO

Rousset-Peynier, le 5 novembre 2004
SILIOS Technologies fournit des écrans de phase à l’ESO.
La société SILIOS Technologies poursuit son développement dans le domaine des composants en micro optique (éléments d’optique diffractive, lames et miroirs de phase ou d’amplitude).

Elle vient de livrer à L’E.S.O (European Southern Observatory) des écrans de phase pour le simulateur de turbulences atmosphériques MAPS (Multi-Atmospheric Phase Screen and Stars). Cet outil simule les perturbations de l’atmosphère au zénith du VLT et permet ainsi de tester en laboratoire les systèmes d’optique adaptative avant leur installation au Chili.

Les profils de phase sont encodés sur des substrats de 100 mm de diamètre et discrétisés sur 32 à 64 niveaux. L’amplitude des variations de phase produites (peak to valley) atteint 8 microns. Ces écrans permettent de travailler dans un large domaine de longueurs d’onde (500-2500 nm) avec une très bonne transmission (T>84% sans antireflet) et une chromaticité réduite (Dn ~2% sur la bande spectrale). Enfin, de par leur conception, ils sont très stables et quasi inaltérables.

D’autres laboratoires européens d’astronomie ont également passé commande à la société pour ce type de produits.

La société met à profit ce savoir faire pour réaliser des miroirs et des lames de phase dans le domaine des lasers de puissance: mise en forme spatiale de faisceaux intra ou extra cavité laser, correction passive de front d’onde, homogénéisation, …

 



Rousset-Peynier, le 11 octobre 2004

Du 4 au 8 octobre 2004, SILIOS TECHNOLOGIES a participé à une convention d'affaires organisée par OpticsValley, avec le soutien de la DIGITIP, au Photonics Center de l'Université de Boston, cœur du cluster nord-américain de l'optique-photonique.
Des rendez-vous personnalisés furent organisés pour permettre aux sociétés de la délégation française de rencontrer des acteurs-clés du secteur comprenant des industriels et des centres de recherche.

 

Laurent Roux, PDG de SILIOS, a notamment rencontré des responsables de laboratoires du MIT (Massachusetts Institute of Technology).
L'intérêt suscité lors de cette mission par la technologie I3O® de SILIOS, concept innovant dans la fabrication de composants optiques intégrés planaires, encourage la société à amorcer son développement commercial aux Etats-Unis.



Rousset, le 1er juillet 2003

SILIOS Technologies, spécialisée dans le développement de composants optiques intégrés passifs pour les télécommunications et spin-off de la société Ion-Beam-Services, vient d’annoncer une augmentation de son capital à hauteur de 1,3 M€, dans le cadre d’un premier tour de financement menés par Vizille Capital Innovation (VCI), TechFund Capital Europe, Primaveris et 123 Multinova.

Cet apport de fonds lui permettra de développer plus avant sa technologie brevetée I3O® (Ion Implanted Integrated Optics) et d’entreprendre la commercialisation d’une nouvelle génération de composants. Comme le souligne Laurent Roux, P.D.G de SILIOS Technologies: «nous avons la capacité de concevoir des composants plus petits, moins chers et à haute capacité d’intégration propres à répondre aux nouvelles exigences du marché des réseaux optiques».

«Dans un secteur au creux de la vague, SILIOS Technologies est, selon Vizille Capital Innovation, bien positionnée pour se démarquer d’ici 2 ans dans la fabrication de guides d’ondes planaires. En effet, elle a su mettre au point une technologie originale et prometteuse, tout en limitant ses coûts de développement.

 

 

De plus, la proximité avec le groupe IBS et la qualité de l’équipe technique dirigée par un industriel qui a déjà fait ses preuves, sont autant de forces qui devraient assurer à cette jeune société une place de premier rang dès la reprise du marché».

Jean-Michel Barbier, Directeur de TechFund Capital Europe, ajoute : «SILIOS Technologies développe une technologie innovante qui aura un impact certain sur son marché. De plus, l’équipe SILIOS rassemble une expérience technique unique de la R&D à l’industrialisation.

C’est la raison pour laquelle nous nous sommes engagés dans le projet, en dépit des conditions actuellement défavorables du marché. En période difficile, notre rôle, en tant qu’investisseur en phase d’amorçage, est d’identifier les nouvelles technologies à fort potentiel de croissance, sur un marché important».

Il est à noter que la technologie I3O® de SILIOS a la particularité de présenter des avantages (indice de réfraction variable, «Mode Field Management», facilité de couplage) qui en font une technologie adaptable à d’autres applications des guides d’ondes planaires que les réseaux optiques telles que la transmission de données, la bio-photonique, les capteurs…

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