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La technologie d’optique diffractive permet la production de DOE (Eléments d’Optique Diffractive).
L’objectif est de mettre en forme des faisceaux laser selon des motifs prédéfinis et d’induire de nouvelles fonctions optiques répondant à des besoins spécifiques de l’industrie et la recherche.
Notre équipe d’ingénieurs prend en charge la conception, la simulation et la fabrication des DOE. Nos solutions techniques ont prouvé leur grande efficacité, leur fiabilité et leur reproductibilité pour des coûts inférieurs à ceux habituellement proposés sur le marché.
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Spécifications:
- Profils gravés binaires et multiniveaux (jusqu’à 512 niveaux de phase)
- Longueur d’ondes : de l'UV à l’infrarouge moyen
- Taille des substrats : jusqu’à 100 mm de diamètre
- Lames de phase en transmission ou réflexion (profil de phase quasi-continu)
- Taille du composant : jusqu’à 100 mm de diamètre
- Modulation d’amplitude également possible
- Résolution de pixel : jusqu’à 2 microns
Materiaux:
- Silice fondue
- Silicium
- Verres
- Métaux
- Autres matériaux sur demande
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Nous utilisons la gravure anisotropique pour produire des MOB sur silicium et en particulier des supports pour l’alignement passif de fibres, lentilles sphériques, diodes, détecteurs.
ex: réseaux de V-Grooves pour fibre optique |
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L’avantage d’une telle technologie tient à l’utilisation des procédés très précis de la photolithographie.
De plus, les intéressantes propriétés thermiques et mécaniques du silicium permettent un alignement réellemment efficace des micro-composants. |
